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2007-11-01 23:58:50| 人氣377| 回應0 | 上一篇 | 下一篇

中華民國第十三屆國際版畫雙年展

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　＜徵件主題 轉印‧傳輸＞

　　科技與當代社會思潮衝擊藝術創作發展，藝術的唯一性、原創性創作本質受到前所未有的衝擊；在數位科技推波逐流下，藝術重製性（reproducibility）議題，引起廣大的興趣。

　　版畫作品固有的複數性特質與當代數位科技的劃時代交滙，可能帶給藝術界新的啟發，及版畫界未來可能發生的變革，存在無限的可能空間，以版畫創作的藝術家面對當下議題，可能的回應方式也將成為藝術史上的創作軌跡，這是值得我們關心與期待的未來。

　　中華民國第十三屆國際版畫雙年展自1983年創辦以來，始終秉持創辦精神，以發揚版畫傳統精華與時代、社會脈絡互動，激發新創意與新可能，跨越出新紀元。我們以開放的態度，廣邀地球村中優秀的創作者，共同參與此屆的版畫徵件盛會，迎接版畫新的未來。


＊民國96年10月1日 發布簡章
　民國97年元月1日 收件開始
　民國97年元月31日 收件截止
　民國97年3月底 初審結果公佈
　民國97年4月30日 入選作品原作送件截止日
　民國97年5月底 複審結果公佈
　民國97年8月 展覽開幕

詳情參照國美館網址：
http://www.ntmofa.gov.tw/b/b01_1.php?id=2025&types=1&m1=0&m2=0&m3=0


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台長： EMMA
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