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台積電喊貴　ASML High NA EUV晶片將問世

世界頂尖半導體生產設備製造商艾司摩爾（ASML）執行長福克今天說，預期幾個月內可看到使用其新一代微影設備高數值孔徑（High NA）極紫外光（EUV）機製造的首批產品問世。ASML於日前舉行媒體交流會，台灣暨東南亞區客戶行銷主管徐寬成表示，半導體製程技術持續不斷微縮，High N...
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新聞台: 補財庫三司財庫官廟 | 台長：suttonaj4
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