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科技新聞網站《VRworld》報導，半導體大廠三星電子 (Samsung Electronics)(005930-KR) 傳已向半導體設備製造廠荷商艾司摩爾 (ASML) 下訂極紫外光 (EUV) 微影技術，成為首家搶進艾司摩爾 EUV 機組的半導體大廠。
三星視商品極紫外光 (EUV) 微影技術為跨入 7 奈米製程的重要轉捩點，盼透過 EUV 技術繼續推進摩爾定律、加速 7 奈米晶片的投產，以擊敗台積電 (2330-TW)、英特爾 (INTC-US) 等其他半導體大廠。
根據此前野村證券 (Nomura Holdings) 的研究報告預估，台積電與三星將能夠同時間於 2017 年第一季邁入 10 奈米製程，英特爾將在 2017 年第三季才能邁入 10 奈米，報告中同時預估台積電將於 2018 年第三季進入 7 奈米製程，三星至 2018 人氣年都恐怕尚無力跨入 7 奈米領域。
目前在三星電子傳向半導體設備製造廠荷商艾司摩爾購入首台極紫外光 (EUV) 微影技術機台之後，預估三星將能夠在 2017 年第四季末，開始投產 7 奈米晶片，製程進度將遠遠超越此前外資的研究預估，一些市場人士擔憂，一旦三星的 7 奈米製程成功投產，恐怕將造成台積電手中訂單出現流失。
但極紫外光 (EUV) 微影技術對半導體製程的推進效果，在市場上傳言已久，此前 EUV 一直未獲青睞的主要原因，是因為該技術的不確定性和穩定度仍高，使得良率及產能問題始終是非常大的挑戰。
此次三星冀望透過 EUV 技術的加持以在先進製程上超越台積電，目的當然是希望搶下蘋果新一代處理器的大訂單，據了解，台積電目前還沒有在產線上引入 EUV 設備的計劃，半導體大廠中只有三星率先引入 EUV，以精進 7 奈米製程。
而為了應對來勢洶洶的三星攻勢，台積電董事會也已於週二 (10日) 通過 1332.9 億新台幣預算，用以購進先進製程設備，為 10 奈米及 7 奈米的未來來作鋪路。
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