电镀電鍍
是应用电解原理在某些金属表面镀上一薄层其他金属或合金的过程。是應用電解原理在某些金屬表面鍍上一薄層其他金屬或合金的過程。
电镀的原理与电解精炼铜的原理是一致的。電鍍的原理與電解精煉銅的原理是一致的。 电镀时，一般都是用含有镀层金属离子的电解质配成电镀液；把待镀金属制品浸入电镀液中与直流电源的负极相连，作为阴极；用镀层金属作为阳极，与直流电源正极相连。電鍍時，一般都是用含有鍍層金屬離子的電解質配成電鍍液；把待鍍金屬製品浸入電鍍液中與直流電源的負極相連，作為陰極；用鍍層金屬作為陽極，與直流電源正極相連。 通入低压直流电，阳极金属溶解在溶液中成为阳离子，移向阴极，这些离子在阴极获得电子被还原成金属，覆盖在需要电镀的金属制品上。通入低壓直流電，陽極金屬溶解在溶液中成為陽離子，移向陰極，這些離子在陰極獲得電子被還原成金屬，覆蓋在需要電鍍的金屬製品上。
电铸電鑄
大致可分为三类，即装饰性电镀（以镀镍-铬、金、银为代表）、防护性电铸（以镀锌为代表）和功能电镀(以镀硬铬为代表电铸是利用电镀法来制造产品的功能电镀之一。大致可分為三類，即裝飾性電鍍（以鍍鎳-鉻、金、銀為代表）、防護性電鑄（以鍍鋅為代表）和功能電鍍(以鍍硬鉻為代表電鑄是利用電鍍法來製造產品的功能電鍍之一。
据称电铸始于1838年。據稱電鑄始於1838年。 当时，苏联的Jacoli在石膏母型上涂敷石腊，通过石墨使其表面具有导电性，然后表面镀铜，镀后脱模，以此制成铜的复制品。當時，蘇聯的Jacoli在石膏母型上塗敷石臘，通過石墨使其表面具有導電性，然後表面鍍銅，鍍後脫模，以此製成銅的複製品。 日本昭和初年，京都市工业研究所和大板造币司等单位就已积极开展了在石膏母型上铸铜，在绝缘体上电镀等方面的研究，并制作了许多精美的金属工艺品。日本昭和初年，京都市工業研究所和大板造幣司等單位就已積極開展了在石膏母型上鑄銅，在絕緣體上電鍍等方面的研究，並製作了許多精美的金屬工藝品。 但是，以石膏或腊等作为母型模进行电铸时，不仅制造技艺要求高、操作麻烦，而且母型易破损，难以制出精致的复制品，所以电铸的应用范围十分有限。但是，以石膏或臘等作為母型模進行電鑄時，不僅製造技藝要求高、操作麻煩，而且母型易破損，難以製出精緻的複製品，所以電鑄的應用範圍十分有限。
後來，由於塑料母型材料的問世以及電鍍水平的提高，電鑄技術也得到很大發展，並廣泛應用於製造那些採用其它方法不能製造的或加工有困難的急需產品。 特别是最近几年，由于电铸用于制造宇航或原子能的某些零件，它已作为一种尖端加工技术而为人们所瞩目。特別是最近幾年，由於電鑄用於製造宇航或原子能的某些零件，它已作為一種尖端加工技術而為人們所矚目。 （此外通过电镀使金属与金属相结合的所谓“电结合技术”也进行了研究。这种电结合的金属不会因热而改变金属材质的机械性能和物理性。 （此外通過電鍍使金屬與金屬相結合的所謂“電結合技術”也進行了研究。這種電結合的金屬不會因熱而改變金屬材質的機械性能和物理性。
电泳涂装電泳塗裝
是利用外加电场使悬浮于电泳液中的颜料和树脂等微粒定向迁移并沉积于电极之一的基底表面的涂装方法。是利用外加電場使懸浮於電泳液中的顏料和樹脂等微粒定向遷移並沉積於電極之一的基底表面的塗裝方法。 电泳涂装的原理发明于是20世纪30年代末，但开发这一技术并获得工业应用是在1963年以后，电泳涂装是近30年来发展起来的一种特殊涂膜形成方法，是对水性涂料最具有实际意义的施工工艺。電泳塗裝的原理髮明於是20世紀30年代末，但開發這一技術並獲得工業應用是在1963年以後，電泳塗裝是近30年來發展起來的一種特殊塗膜形成方法，是對水性塗料最具有實際意義的施工工藝。 具有水溶性、无毒、易于自动化控制等特点，迅速在汽车、建材、五金、家电等行业得到广泛的应用。具有水溶性、無毒、易於自動化控制等特點，迅速在汽車、建材、五金、家電等行業得到廣泛的應用。
電泳塗裝是把工件和對應的電極放入水溶性塗料中，接上電源後，依靠電場所產生的物理化學作用，使塗料中的樹脂、顏填料在以被塗物為電極的表面上均勻析出沉積形成不溶於水的漆膜的一種塗裝方法。
电泳涂装是一个极为复杂的电化学反应过程，其中至少包括电泳、电沉积、电渗、电解四个过程。電泳塗裝是一個極為複雜的電化學反應過程，其中至少包括電泳、電沉積、電滲、電解四個過程。 电泳涂装按沉积性能可分为阳极电泳（工件是阳极，涂料是阴离子型）和阴极电泳（工件是阴极，涂料是阳离子型）；按电源可分为直流电泳和交流电泳；按工艺方法又有定电压和定电流法。電泳塗裝按沉積性能可分為陽極電泳（工件是陽極，塗料是陰離子型）和陰極電泳（工件是陰極，塗料是陽離子型）；按電源可分為直流電泳和交流電泳；按工藝方法又有定電壓和定電流法。 目前在工业上较为广泛采用的是直流电源定电压法的阳极电泳。目前在工業上較為廣泛採用的是直流電源定電壓法的陽極電泳。
溅镀濺鍍
原理主要利用辉光放电(glowdis-charge)将氩气(Ar)离子撞击靶(tar-get)表面,靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。原理主要利用輝光放電(glowdis-charge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶(tar-get)表面,靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。 溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。濺鍍薄膜的性質、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。 新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化,造成靶与氩气离子间的撞击机率增加,提高溅镀速率。新型的濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化,造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加,提高濺鍍速率。 一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放电(glowdis-charge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(tar-get)表面，电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面，这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。一般金屬鍍膜大都採用直流濺鍍,而不導電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glowdis-charge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(tar -get)表面，電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負電極表面，這個衝擊將使靶材的物質飛出而沉積在基板上形成薄膜。
一般来说，利用溅镀制程进行薄膜披覆有几项特点：一般來說，利用濺鍍製程進行薄膜披覆有幾項特點：
(1)金屬、合金或絕緣物均可做成薄膜材料。
(2)再适当的设定条件下可将多元复杂的靶材制作出同一组成的薄膜。 (2)再適當的設定條件下可將多元復雜的靶材製作出同一組成的薄膜。
(3)利用放电气氛中加入氧或其它的活性气体，可以制作靶材物质与气体分子的混合物或化合物。 (3)利用放電氣氛中加入氧或其它的活性氣體，可以製作靶材物質與氣體分子的混合物或化合物。
(4)靶材输入电流及溅射时间可以控制，容易得到高精度的膜厚。 (4)靶材輸入電流及濺射時間可以控制，容易得到高精度的膜厚。
(5)较其它制程利于生产大面积的均一薄膜。 (5)較其它製程利於生產大面積的均一薄膜。
(6)溅射粒子几不受重力影响，靶材与基板位置可自由安排。 (6)濺射粒子幾不受重力影響，靶材與基板位置可自由安排。
(7)基板与膜的附着强度是一般蒸镀膜的10倍以上，且由于溅射粒子带有高能量，在成膜面会继续表面扩散而得到硬且致密的薄膜，同时此高能量使基板只要较低的温度即可得到结晶膜。 (7)基板與膜的附著強度是一般蒸鍍膜的10倍以上，且由於濺射粒子帶有高能量，在成膜面會繼續表面擴散而得到硬且緻密的薄膜，同時此高能量使基板只要較低的溫度即可得到結晶膜。
(8)薄膜形成初期成核密度高，可生产10nm以下的极薄连续膜。 (8)薄膜形成初期成核密度高，可生產10nm以下的極薄連續膜。
(9)靶材的寿命长，可长时间自动化连续生产。 (9)靶材的壽命長，可長時間自動化連續生產。
(10)靶材可制作成各种形状，配合机台的特殊设计做更好的控制及最有效率的生产。 (10)靶材可製作成各種形狀，配合機台的特殊設計做更好的控制及最有效率的生產。
阳极处理陽極處理
一种电解过程，提供镀层金属的金属片作用有如阳极，电解液通常为镀着金属的离子溶液，被镀物作用则有如阴极。一種電解過程，提供鍍層金屬的金屬片作用有如陽極，電解液通常為鍍著金屬的離子溶液，被鍍物作用則有如陰極。 阳极与阴极间输入电压后，吸引电解液中的金属离子游至阴极，还原后即镀着其上。陽極與陰極間輸入電壓後，吸引電解液中的金屬離子游至陰極，還原後即鍍著其上。 同时阳极的金属再溶解，提供电解液更多的金属离子。同時陽極的金屬再溶解，提供電解液更多的金屬離子。 某些情况下使用不溶性阳极，电镀时需添加新群电解液补充镀着金属离子。某些情況下使用不溶性陽極，電鍍時需添加新群電解液補充鍍著金屬離子。
一般铝合金很容易氧化，氧化层虽有一定钝化作用，但长期曝露之结果，氧化层仍会剥落，丧失保护作用，因此阳极处理的目的即利用其易氧化之特性，藉电化学方法控制氧化层之生成，以防止铝材进一步氧化，同时增加表面的机械性质。一般鋁合金很容易氧化，氧化層雖有一定鈍化作用，但長期曝露之結果，氧化層仍會剝落，喪失保護作用，因此陽極處理的目的即利用其易氧化之特性，藉電化學方法控制氧化層之生成，以防止鋁材進一步氧化，同時增加表面的機械性質。
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